تراشه جدید هواوی با لیتوگرافی ۳ نانومتری احتمالا تا پایان ۲۰۲۱ تولید می‌شود

سال گذشته میلادی هواوی پس از اپل، از چیپ ۵ نانومتری کرین ۹۰۰۰ رونمایی کرد که البته تبدیل به اولین تراشه ۵ نانومتری در دنیای اندروید شد. حالا این کمپانی خودش را برای توسعه چیپ ۳ نانومتری آماده می‌کند که احتمالا تا پایان ۲۰۲۱ تولیدش شروع خواهد شد.

تولید تراشه‌ها در لیتوگرافی کوچک‌تر به شرکت طراح اجازه می‌دهد تعداد ترانزیستور بیشتری را داخل آن تعبیه کند که این موضوع، افزایش قدرت پردازشی دستگاه را در پی دارد. علاوه بر این، با لیتوگرافی کوچکتر مصرف تراشه هم کاهش پیدا می‌کند که نتیجه‌اش افزایش شارژدهی باتری خواهد بود. بنابراین چنین پردازنده‌هایی در کنار افزایش قدرت، شارژدهی باتری را هم بیشتر می‌کنند.

هواوی توانست توسط یکی از زیرمجموعه‌هایش به نام های‌سیلیکون تراشه ۵ نانومتری طراحی کند که قدم بزرگی در دنیای اندروید بود. پس از این کمپانی چینی، شرکت‌های دیگری هم دست به چنین کاری زدند و حالا اکثر پرچمداران بازار شامل آیفون و محصولات اندرویدی از چیپ ۵ نانومتری بهره می‌برند.

حالا خبرهای جدید از این حکایت دارند که کمپانی هواوی قصد دارد نسل جدید تراشه‌های خود را با استفاده از لیتوگرافی ۳ نانومتری طراحی و همین امسال نیز نسبت به تولید آن‌ها اقدام کند.

هواوی چند روز پیش نام تجاری جدیدی را برای برند کرین که مربوط به چیپست‌های این شرکت است، به ثبت رساند. این موضوع نشان می‌دهد هواوی علی‌رغم محدودیت‌های تجاری، همچنان در حال توسعه صنعت تراشه‌های خود است.

انتظار می‌رود هواوی تولید تراشه‌های ۳ نانومتری خود را تا پایان سال جاری میلادی شروع کند و نسل جدید این چیپست‌ها را که احتمالا کرین ۹۰۱۰ نام خواهد داشت، در آینده نزدیک در گوشی‌ها و تبلت‌های پرچمدار خود به کار ببرد.

هواوی اگر بتواند چنین پیشرفتی داشته باشد و تعداد ترانزیستورهای پردازنده‌هایش را افزایش دهد، پرچمدارهای آینده‌اش را با قدرت بالاتر و البته مصرف انرژی بهینه‌تری روانه بازار خواهد کرد.